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海報

「同步之美」科學攝影比賽

 

科學本質是有系統的經由觀察、假設、實驗、結論的過程探索自然之奧將之歸納形成新的知識。 而科學工作者對真、善、美的追求是兼具理性與感性, 與藝術創作的過程不謀而合; 觀察和實驗的過程中,常有視覺上的驚豔,不斷開啟人類的新視野, 透過科學攝影,您會發現:原來科學中充滿藝術,科學很美麗!

 

參賽資格

國家同步輻射研究中心註冊有效之用戶均可報名參加。

 

參賽規定:

  1. 攝影比賽分為照片組及動態影像組,可擇一參加或兩組均參加。
  2. 參賽團隊成員人數,至少1人,至多5人為限。
  3. 參賽團隊若同時參加兩組之競賽,其照片組之影像不得為動態影像之片段。
  4. 每一作品必須包含一段解說文字,字數必須於250字以內,進行相關說明,作品之產生必須和同步輻射相關 (實驗相關)
  5. 參加本活動之團隊,視為自動同意授權本中心使用該照片或影像,於中心相關活動中進行公開展示及利用,如有商業或研究機密及期刊刊登影響之圖像請勿投稿。
  6. 規定未明之處,本中心保留解釋之權利。

 

評選辦法:

  1. 參賽作品將於用戶年會期間,公開展示於學術活動中心二樓外廊。
  2. 作品需與實驗相關,請UEC主席與中心年會負責人事先審閱,方於年會期間進行投票。
  3. 用戶年會期間,完成報到之用戶均可投票,參觀完作品展示後,利用名牌上的QR Code,方可進行投票,分組選擇心中最佳之作品(單選)。
  4. 大會將於第二天中午結束投票並統計得票數,並於當天晚宴開票頒獎。

 

獎項:

  1. 本比賽每組分別設有優勝一名,佳作若干名(依參加團隊決定),得獎團隊將於用戶年會晚宴頒獎。
  2. 優勝作品將頒發獎金$2,000元,獎狀一紙;佳作頒發獎金$1,000元,獎狀一紙。

 


範例

作者蔣慶有、林家賢、邱上睿、古慶順、謝宛蓁

單位國家同步輻射研究中心材料科學小組

說明

X光結晶學已發展成熟久,X光繞射分析技術已成為晶體結構特性研究的利器,但微區的晶體分析是近代科學家一直想探索的領域。圖以銅箔及其表面氧化態結構為例,欲了解數微米乃至數百奈米尺度下晶體特性傳統X光繞射已難達成。然而,透過新一代同步輻射奈米聚焦掃描式X光勞厄繞射技術,並整合臨場電子顯微鏡進行快速定位與即時成像,得以在更小的維度下完成對晶體的分析,得知晶體的結晶取向,乃至晶體缺陷密度分佈與殘留應力的大小與方向,都可以在此先進的X奈米繞射實驗站成功解析